Technologie polovodivých materiálů zahrnuje velmi širokou oblast materiálů a v rámci jednoho skripta není možné ji celou obsáhnout. Z tohoto důvodu je pozornost věnována pouze základním a technicky významným polovodivým materiálům jako je křemík a některé vybrané sloučeniny typu A^IIIB^V, zvláště GaAs a to ještě převážně přípravě těchto materiálů ve formě monokrystalů. Proto relativně velká část skript obsahuje popis technologie přípravy monokrystalu křemíku a arsenidu galitého jako výchozích materiálů pro výrobu mikroelektronických a optoelektronických součástek. Popsány jsou i metody přípravy tenkých vrstev dielektrických, kovových a polovodivých, které jsou důležité v technologii těchto součástek. Dále jsou ve skriptu zařazeny kapitoly zaměřené na základní technologické operace používané v technologii polovodičů, jako je epitaxe, difúze, implantace na jedné straně a fotolitografické postupy a tvarování (suché a mokré procesy) polovodivých struktur na straně druhé. Logický sled technologických,postupů a operací doplňuje kapitola věnovaná i výrobě čipů polovodivých součástek a jejich zpracováni a pouzdření. Cílem tohoto postupu je umožnit posluchačům získat přehled o technologických postupech, jejich náročnosti a potřebách, s kterými se mohou setkat při výrobě i výzkumu mikroelektronických a optoelektronických struktur a zvláště integrovaných obvodů, jako nejvýznamnější průmyslové aplikace moderních polovodivých monokrystalických materiálů. Převážně jsou popisovány principy a postupy přípravy monolitických struktur a značně stranou byly ponechány technologie tenkovrstvových či tlustovrstvových obvodů, které nemají tak bezprostřední vztah k technologii polovodičů.